ACTIVE ANODIC DISSOLUTION OF NICKEL MONOSILICIDE IN SULPHURIC ACID SOLUTION CONTAINING SODIUM FLUORIDE

Abstract

Изучено анодное поведение NiSi в 0.5 М Н2SO4 + (0.005—0.05) М NaF в области
потенциалов активного растворения. На основании импедансных данных сделан вывод, что
при потенциалах от –0.08 до 0.04 В имеет место селективное растворение никеля из силицида
никеля. Показано, что с ростом поляризации NiSi-электрода и концентрации NaF в растворе
коэффициент диффузии никеля в твердой фазе увеличивается. Микроскопические и профи-
лометрические исследования свидетельствуют о значительном развитии электродной поверх-
ности NiSi в ходе анодного травления.