HIGH-RATE PLASMA-CHEMICAL ETCHING OF LITHIUM NIOBATE

  • Vyacheslav. V. Gulyaev the post-graduate student of chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics», Voronezh State University; tel: 8(920) 2170651, e-mail: vv_ gulyaev@mail.ru
  • Jury I. Dikerev PhD (technical sciences), senior lecturer of chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics », Voronezh State University; tel.: 8(4732) 208917
  • Vladimir М. Rubinstein PhD (technical sciences), senior scientifi c employee of chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics», Voronezh State University; tel.: (4732) 208917
  • Sergey М. Tsvetkov scientifi c employee of chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics», Voronezh State University; tel.: (4732) 208917
  • Evgenie N. Bormontov grand PhD (physical and mathematical sciences), professor, chief of the chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics», Voronezh State University; tel.: (4732) 208917

Abstract

Изучены кинетика, механизм и особенности высокоскоростного плазмохимического травления монокристаллического LiNbO3 в газоразрядной фторсодержащей плазме. Установлено, что этот процесс является типичным топохимическим. Методами растровой
электронной микроскопии, рентгеновского микроанализа и рентгеновской дифрактометрии определены: динамика изменения морфологии поверхностного слоя, элементный и фазовый состав твердых продуктов реакций. Разработана физико-химическая модель травления.

Downloads

Download data is not yet available.

References

1. Lee C. L. Lu C. L. // Appl, Phys, Lett. 1979. V. 35. № 10. P. 756—758.
2. Shima K. Mitsugi N., Nagata H. // Material Research Sosiety. 2007. V. 49. № 8. P. 257—259.
3. Park W. J., Yang W. S., Kim W. K., et al. // Optical Materials. 2006. V. 28. P. 216—220.
4. Гольдфарб В. А., Дикарев Ю. И., Петраков В. И. // Матер. VI междунар. научн.-техн. конф. «Радиолокация, навигация, связь». Воронеж, 2000. Т. 3. С. 1954—1960.
5. Райзер Ю. П., Шнейдер М. Н., Яценко Н. А. Высокочастотный емкостной разряд: Физика. Техника эксперимента. М.: Наука. Физматлит, 1995. 320 с.
6. Розовский А. Я. Гетерогенные химические реакции (кинетика и макрокинетика). М.: Наука, 1980. 324 с.
7. Данилин Б. С., Киреев В. С. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.: Энергоатомиздат, 1987. 264с.
8. Кузьминов Ю. С. Электрооптический и нелинейно оптический кристалл ниобата лития. М.: Наука, 1987. 264 с.
Published
2010-12-16
How to Cite
Gulyaev, V. V., Dikerev, J. I., RubinsteinV. М., TsvetkovS. М., & Bormontov, E. N. (2010). HIGH-RATE PLASMA-CHEMICAL ETCHING OF LITHIUM NIOBATE. Condensed Matter and Interphases, 12(4), 360-368. Retrieved from https://journals.vsu.ru/kcmf/article/view/1134
Section
Статьи