ВЫСОКОСКОРОСТНОЕ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЕ ТРАВЛЕНИЕ НИОБАТА ЛИТИЯ

Vyacheslav. V. Gulyaev; Jury I. Dikerev; Vladimir М. Rubinstein; Sergey М. Tsvetkov; Evgenie N. Bormontov

Авторы

Vyacheslav. V. Gulyaev Гуляев Вячеслав Валентинович — аспирант кафедры физики полупроводников и микроэлектроники Воро- нежского государственного университета; тел.: 8(920) 2170651, e-mail: vv_gulyaev@mail.ru
Jury I. Dikerev Дикарев Юрий Иванович — к.т.н., доцент кафедры физики полупроводников и микроэлектроники Воронежского государственного университета; тел.: 8(4732) 208917
Vladimir М. Rubinstein Рубинштейн Владимир Михайлович — к.т.н., старший научный сотрудник кафедры физики полупрово- дников и микроэлектроники Воронежского государственного университета; тел.: (4732) 208917
Sergey М. Tsvetkov Цветков Сергей Михайлович — научный сотрудник кафедры физики полупроводников и микроэлектроники Воронежского государственного университета; тел.: (4732) 208917
Evgenie N. Bormontov Бормонтов Евгений Николаевич — д. ф.-мат.н, профессор, зав. кафедрой физики полупроводников и микроэлектроники Воронежского государственного университета; тел.: (4732) 208917

Ключевые слова:

плазмохимическое травление, ниобат лития, скорость травления, методы электронной микроскопии, рентгеновской микроанализ, физико-химическая модель взаимодействия.

Аннотация

Изучены кинетика, механизм и особенности высокоскоростного плазмохимического травления монокристаллического LiNbO3 в газоразрядной фторсодержащей плазме. Установлено, что этот процесс является типичным топохимическим. Методами растровой
электронной микроскопии, рентгеновского микроанализа и рентгеновской дифрактометрии определены: динамика изменения морфологии поверхностного слоя, элементный и фазовый состав твердых продуктов реакций. Разработана физико-химическая модель травления.