ВЫСОКОСКОРОСТНОЕ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЕ ТРАВЛЕНИЕ НИОБАТА ЛИТИЯ

Vyacheslav. V. Gulyaev; Jury I. Dikerev; Vladimir М. Rubinstein; Sergey М. Tsvetkov; Evgenie N. Bormontov

Authors

Vyacheslav. V. Gulyaev the post-graduate student of chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics», Voronezh State University; tel: 8(920) 2170651, e-mail: vv_ gulyaev@mail.ru
Jury I. Dikerev PhD (technical sciences), senior lecturer of chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics », Voronezh State University; tel.: 8(4732) 208917
Vladimir М. Rubinstein PhD (technical sciences), senior scientifi c employee of chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics», Voronezh State University; tel.: (4732) 208917
Sergey М. Tsvetkov scientifi c employee of chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics», Voronezh State University; tel.: (4732) 208917
Evgenie N. Bormontov grand PhD (physical and mathematical sciences), professor, chief of the chair «Physics of Semiconductors and Microelectronics», Voronezh State University; tel.: (4732) 208917

Keywords:

плазмохимическое травление, ниобат лития, скорость травления, методы электронной микроскопии, рентгеновской микроанализ, физико-химическая модель взаимодействия.

Abstract

Изучены кинетика, механизм и особенности высокоскоростного плазмохимического травления монокристаллического LiNbO3 в газоразрядной фторсодержащей плазме. Установлено, что этот процесс является типичным топохимическим. Методами растровой
электронной микроскопии, рентгеновского микроанализа и рентгеновской дифрактометрии определены: динамика изменения морфологии поверхностного слоя, элементный и фазовый состав твердых продуктов реакций. Разработана физико-химическая модель травления.