АНОДНОЕ ФОРМИРОВАНИЕ И СВОЙСТВА ОКСИДОВ МЕДИ НА Cu,Zn(α)-CПЛАBAX СО СТРУКТУРНО-РАЗУПОРЯДОЧЕННЫМ ПОВЕРХНОСТНЫМ СЛОЕМ
DOI:
https://doi.org/10.17308/kcmf.2017.19/181Ключевые слова:
медно-цинковые сплавы, селективное растворение, поверхностный слой, вакансионная дефектность, анодное оксидообразованиеАннотация
Исследованы закономерности анодного роста и установлены некоторые электронные характеристики оксидов меди на Cu,Zn(α)-сплавах (содержание цинка до 30 ат.%) с контролируемым уровнем структурно-вакансионной дефектности поверхностного слоя. Показано, что с ростом потенциала селективного растворения сплавов в 0.01 M HCl + 0.09 M KCl коэффициент взаимодиффузии компонентов, а также концентрация вакансий в поверхностном слое сплава увеличиваются. Основные закономерности анодного формирования оксидов Cu(I) и Cu(II) в 0.1 M KOH на α-латунях, а также потенциал плоских зон не зависят от объемной концентрации цинка и содержания сверхравновесных вакансий. Тем не менее, концентрация акцепторных дефектов в обоих оксидах меди, характеризующихся p-типом проводимости, заметно повышается с ростом вакансионной дефектности поверхностного слоя α-латуни.
Работа выполнена при финансовой поддержке Минобрнауки РФ в рамках Госзадания вузам на 2014-2016 гг., проект 675.






