STRUCTURE OF INTERFACE Ga2Se3 - Si(100)
Keywords:
гетероструктура, селенид галлия, кремний, реконструкция поверхности, граница раздела.Abstract
Методом просвечивающей электронной микроскопии исследована гетерограница Ga2Se3-Si(100), сформированная напылением в квазизамкнутом объеме из независимых источников галлия и селена. Предварительная обработка кремниевой подложки в потоке Ga с
целью удаления естественного оксида позволяет получать монокристаллические эпитаксиальные пленки Ga2Se3. Установлены технологические параметры процесса, когда на микродифракционных изображениях появляются «видимые» плоскости Ga2Se3 (110) и (310), присутствие которых свидетельствуют о реконструкции поверхности Si(100) по типу (2×1) или с(4×2).








