АНОДНЫЕ ПРОЦЕССЫ НА Mn5Si3-ЭЛЕКТРОДЕ В КИСЛЫХ СРЕДАХ

Abstract

Установлены кинетические закономерности анодного поведения силицида марганца (Mn5Si3) в растворах 0.5 M H2SO4, 0.05 M H2SO4 + 0.45 Na2SO4, 1.0 M HCl, 0.1 M HCl + 0.9 M NaCl в области потенциалов от -0.25 до 2.0 В (ст.в.э.). Сделан вывод, что в процессе анодного окисления на поверхности силицида формируется оксидная пленка, близкая по составу к SiO2. Рассчитаны толщина оксидной пленки и ее удельное сопротивление в зависимости от потенциала.