АНОДНЫЕ ПРОЦЕССЫ НА Mn5Si3-ЭЛЕКТРОДЕ В КИСЛЫХ СРЕДАХ

  • Виктория Вячеславовна Пантелеева
  • Татьяна Геннадьевна Окунева
  • Анатолий Борисович Шеин

Abstract

Установлены кинетические закономерности анодного поведения силицида марганца (Mn5Si3) в растворах 0.5 M H2SO4, 0.05 M H2SO4 + 0.45 Na2SO4, 1.0 M HCl, 0.1 M HCl + 0.9 M NaCl в области потенциалов от -0.25 до 2.0 В (ст.в.э.). Сделан вывод, что в процессе анодного окисления на поверхности силицида формируется оксидная пленка, близкая по составу к SiO2. Рассчитаны толщина оксидной пленки и ее удельное сопротивление в зависимости от потенциала.

Downloads

Download data is not yet available.
Published
2016-10-02
How to Cite
Пантелеева, В. В., Окунева, Т. Г., & Шеин, А. Б. (2016). АНОДНЫЕ ПРОЦЕССЫ НА Mn5Si3-ЭЛЕКТРОДЕ В КИСЛЫХ СРЕДАХ. Kondensirovannye Sredy I Mezhfaznye Granitsy = Condensed Matter and Interphases, 18(3), 383-393. Retrieved from https://journals.vsu.ru/kcmf/article/view/147
Issue
Vol 18 No 3 (2016)
Section
Статьи