АНАЛИЗ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ КОНЦЕНТРАЦИИ КОМПОНЕНТОВ В ПРОЦЕССЕ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ НИОБИЯ НА КРЕМНИЙ

Nikolay N. Afonin; Boris M. Darinskii; Vera A. Logachova; Aleksander M. Khoviv

Authors

Nikolay N. Afonin grand PhD (chemistry), senior scientifi c employee, Voronezh State University; tel: (473) 2208445, e-mail: nafonin@vspu.ac.ru
Boris M. Darinskii grand PhD (physical and mathematical science), professor, Voronezh State University; tel.: (473) 2772727, e-mail: darinskii@math.vsu.ru
Vera A. Logachova PhD (chemistry science), leading scientifi c employee of Technopark, Voronezh State University; tel: (473) 2208445, e-mail: kcmf@vsu.ru
Aleksander M. Khoviv grand PhD, professor, Voronezh State University; tel.: (473) 2208445, e-mail: khoviv@vsu.ru

Keywords:

магнетронное распыление, тонкие пленки, концентрационное распределе- ние компонентов, обратное резерфордовское рассеяние, вторичная ионная масс-спектрометрия.

Abstract

Методами РОР, ВИМС и математического моделирования исследовано перераспределение компонентов в процессе магнетронного распыления ниобия на монокристаллический кремний. Показано, что имплантационный характер проникновения атомов металла в
кремний приводит к появлению приповерхностного пика концентрации кремния в растущей пленке металла.