АНАЛИЗ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ КОНЦЕНТРАЦИИ КОМПОНЕНТОВ В ПРОЦЕССЕ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ НИОБИЯ НА КРЕМНИЙ

Nikolay N. Afonin; Boris M. Darinskii; Vera A. Logachova; Aleksander M. Khoviv

Авторы

Nikolay N. Afonin Афонин Николай Николаевич — д.х.н., профессор, ст.н.с. Технопарка Воронежского государственного университета; тел.: (473) 2208445, e-mail: nafonin@vspu.ac.ru
Boris M. Darinskii Даринский Борис Михайлович — д.ф.-м.н., профес- сор, Воронежский государственный университет; тел: (473) 2772727, e-mail: darinskii@math.vsu.ru
Vera A. Logachova Логачева Вера Алексеевна — к.х.н., ведущий научный сотрудник Технопарка Воронежского государственного университета; тел.: (473) 2208445; e-mail: kcmf@ vsu.ru
Aleksander M. Khoviv Ховив Александр Михайлович — д. ф.-м. н., д.х.н., профессор, Воронежский государственный университет; тел: (473) 2208445, e-mail: khoviv@vsu.ru

Ключевые слова:

магнетронное распыление, тонкие пленки, концентрационное распределе- ние компонентов, обратное резерфордовское рассеяние, вторичная ионная масс-спектрометрия.

Аннотация

Методами РОР, ВИМС и математического моделирования исследовано перераспределение компонентов в процессе магнетронного распыления ниобия на монокристаллический кремний. Показано, что имплантационный характер проникновения атомов металла в
кремний приводит к появлению приповерхностного пика концентрации кремния в растущей пленке металла.