ВЛИЯНИЕ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ ПОЛИРОВКИ ТАНТАЛА НА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ АНОДНОГО ОКСИДА
Ключевые слова:
тантал, электрохимическая полировка, анодное окисление.
Аннотация
Изучено анодное поведение Та-электрода в 0.1 M водном растворе H3PO4 после стадии электрохимической полировки поверхности металла. Установлены оптимальные условия проведения процесса электрохимической полировки в электролите HF:C3H7OH:H2SO4. На основе анализа циклических вольтамперных кривых сделано заключение, что эффективность процесса формирования анодного оксида тантала близка к 100 %. Данные импедансной спектроскопии подтверждают образование оксидной пленки с высокими диэлектрическими характеристиками. Проведен расчет диэлектрической проницаемости сформированного оксида, дана оценка фактора шероховатости поверхности тантала после ее электрохимической полировки.
Скачивания
Данные скачивания пока не доступны.
Литература
1. Young L. Anodic Oxide Films. London, New York: Academic Press, 1961, 377 p.
2. Macagno V., Schultze J. W. J. Electroanal Chem., 1984, vol. 180, pp. 157-170. DOI: 10.1016/0368-1874(84)83577-7
3. Cavigliasso G. E., Esplandiu M. J., Macagno V. A. Journal of Applied Electrochemistry, 1998, vol. 28, no. 11, pp. 1213-1219. DOI: 10.1023/A:1003449917148
4. Popova I. A., Gridnev A. E., Kukuev V. I., Tutov E. A., Melnikova M. S. Vestnic VGU. Seria: Fizika. Matematica [Proceedings of Voronezh State University. Series: Physics. Mathematics], 2011, no. 2, pp. 27-31. Available at: http://www.vestnik.vsu.ru/pdf/physmath/2011/02/2011-02-04.pdf (in Russ.)
5. Lu Q., Mato S., Skeldon P., Thompson G. E., Masheder D., Habazaki H., Shimizu K. Electrochimica Acta, 2002, vol. 47, no. 17, pp. 2761-2767. DOI: 10.1016/S0013-4686(02)00141-X
6. Al-Kharafi F. M., Badawy W. A. Electrochimica Acta, 1995, vol. 40, no. 16, pp. 2623-2626. DOI: 10.1016/0013-4686(95)00123-V
7. Lu Q., Mato S., Skeldon P., Thompson G. E., Masheder D. Thin Solid Films, 2003, vol. 429, pp. 238-242. DOI: 10.1016/S0040-6090(02)01292-0
8. Horwood C. A., El-Sayed H. A., Briss V. I. Electrochimica Acta, 2014, vol. 132, pp. 91-97. DOI: doi.org/10.1016/j.electacta.2014.03.128
9. Kerrec O., Devilliers D., Groult H., and Chemla M. Electrochimica Acta, 1995, vol. 40, no. 6, pp. 719-724. DOI: 10.1016/0013-4686(94)00330-4
2. Macagno V., Schultze J. W. J. Electroanal Chem., 1984, vol. 180, pp. 157-170. DOI: 10.1016/0368-1874(84)83577-7
3. Cavigliasso G. E., Esplandiu M. J., Macagno V. A. Journal of Applied Electrochemistry, 1998, vol. 28, no. 11, pp. 1213-1219. DOI: 10.1023/A:1003449917148
4. Popova I. A., Gridnev A. E., Kukuev V. I., Tutov E. A., Melnikova M. S. Vestnic VGU. Seria: Fizika. Matematica [Proceedings of Voronezh State University. Series: Physics. Mathematics], 2011, no. 2, pp. 27-31. Available at: http://www.vestnik.vsu.ru/pdf/physmath/2011/02/2011-02-04.pdf (in Russ.)
5. Lu Q., Mato S., Skeldon P., Thompson G. E., Masheder D., Habazaki H., Shimizu K. Electrochimica Acta, 2002, vol. 47, no. 17, pp. 2761-2767. DOI: 10.1016/S0013-4686(02)00141-X
6. Al-Kharafi F. M., Badawy W. A. Electrochimica Acta, 1995, vol. 40, no. 16, pp. 2623-2626. DOI: 10.1016/0013-4686(95)00123-V
7. Lu Q., Mato S., Skeldon P., Thompson G. E., Masheder D. Thin Solid Films, 2003, vol. 429, pp. 238-242. DOI: 10.1016/S0040-6090(02)01292-0
8. Horwood C. A., El-Sayed H. A., Briss V. I. Electrochimica Acta, 2014, vol. 132, pp. 91-97. DOI: doi.org/10.1016/j.electacta.2014.03.128
9. Kerrec O., Devilliers D., Groult H., and Chemla M. Electrochimica Acta, 1995, vol. 40, no. 6, pp. 719-724. DOI: 10.1016/0013-4686(94)00330-4
