ВЛИЯНИЕ БЫСТРОГО ТЕРМИЧЕСКОГО ОТЖИГА НА ФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА СТРУКТУР Ni/4H-SiC

Abstract

Методом рентгеновской дифракции определён фазовый состав структур Ni/4H - SiC(001) после быстрого термического отжига в вакууме. Установлено одновременное образование гексагонального Ni₃₁Si₁₂ и орторомбического Ni₂Si силицидов никеля в интервале температур 900 – 1150 °С при длительности отжига от 30 до 180 с и дополнительно к указанным фазам орторомбического NiSi при температуре 1250 °С и длительности 60 с. Удельное контактное сопротивление снижалось при увеличении температуры и времени отжига.