ВЛИЯНИЕ БЫСТРОГО ТЕРМИЧЕСКОГО ОТЖИГА НА ФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА СТРУКТУР Ni/4H-SiC
Ключевые слова:
карбид кремния, силициды никеля, омический контакт, рентгеновская дифрактометрия
Аннотация
Методом рентгеновской дифракции определён фазовый состав структур Ni/4H - SiC(001) после быстрого термического отжига в вакууме. Установлено одновременное образование гексагонального Ni31Si12 и орторомбического Ni2Si силицидов никеля в интервале температур 900 – 1150 °С при длительности отжига от 30 до 180 с и дополнительно к указанным фазам орторомбического NiSi при температуре 1250 °С и длительности 60 с. Удельное контактное сопротивление снижалось при увеличении температуры и времени отжига.
Скачивания
Данные скачивания пока не доступны.
Опубликован
2015-09-30
Как цитировать
Юраков, Ю. А., Черных, М. И., Цоцорин, А. Н., Кожевников, В. А., Канныкин, С. В., Бормонтов, Е. Н., & Румянцева, Н. А. (2015). ВЛИЯНИЕ БЫСТРОГО ТЕРМИЧЕСКОГО ОТЖИГА НА ФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА СТРУКТУР Ni/4H-SiC. Конденсированные среды и межфазные границы, 17(3), 384-391. извлечено от https://journals.vsu.ru/kcmf/article/view/83
Выпуск
Раздел
Статьи
