Особенности роста и состава гетероструктур AlxGa1-xN/AlN/por-Si/Si(111), выращенных c использованием буферного слоя пористого кремния

  • Александр Сергеевич Леньшин Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация; Воронежский государственный университет инженерных технологий, пр. Революции, 19, Воронеж 394036, Российская Федерация https://orcid.org/0000-0002-1939-253X
  • Павел Владимирович Середин Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация https://orcid.org/0000-0002-6724-0063
  • Дмитрий Сергеевич Золотухин Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация https://orcid.org/0000-0002-9645-9363
  • Артемий Николаевич Бельтюков Удмуртский федеральный исследовательский центр УрО Российской академии наук, ул. им. Татьяны Барамзиной, 34, Ижевск 426067, Российская Федерация https://orcid.org/0000-0002-7739-7400
  • Андрей Михайлович Мизеров Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж. И. Алфёрова Российской академии наук, ул. Хлопина, 8, корпус 3, литер А, Санкт-Петербург 194021, Российская Федерация https://orcid.org/0000-0002-9125-6452
  • Игорь Алексеевич Касаткин Санкт-Петербургский государственный университет, Университетская наб., 7/9, Санкт-Петербург 199034, Российская Федерация https://orcid.org/0000-0001-9586-5397
  • Радам Али Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация https://orcid.org/0000-0002-1072-0816
  • Эвелина Павловна Домашевская Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация https://orcid.org/0000-0002-6354-4799
Ключевые слова: переходной слой пористого кремния, гетероструктуры, эпитаксия

Аннотация

      В работе исследована эффективность внедрения в молекулярно-пучковую технологию роста гетероструктуры на монокристаллическом кремнии AlxGa1-xN/AlN/Si(111) в качестве переходного слоя нанопористого кремния и его влияние на морфологические характеристики и атомный состав поверхностных слоев гетероструктур. В ходе исследования рентгеноструктурными, микроскопическими и рентгенофотоэлектронными методами установлено, что гетероструктура, выращенная с использованием нанопористого буферного слоя por-Si на монокристаллической
пластине кремния Si(111) n-типа обладает более однородной структурой эпитаксиального слоя и морфологией его поверхности.

Скачивания

Данные скачивания пока не доступны.

Биографии авторов

Александр Сергеевич Леньшин, Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация; Воронежский государственный университет инженерных технологий, пр. Революции, 19, Воронеж 394036, Российская Федерация

д. ф.-м. н., в. н. с. кафедры физики твердого тела и наноструктур, Воронежский государственный университет; доцент, Воронежский государственный университет инженерных технологий (Воронеж, Российская Федерация).

Павел Владимирович Середин, Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация

д. ф.-м. н., заведующий кафедрой физики твердого тела и наноструктур, Воронежский государственный университет (Воронеж, Российская Федерация).

Дмитрий Сергеевич Золотухин, Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация

аспирант кафедры физики твердого тела и наноструктур, Воронежский государственный университет (Воронеж, Российская Федерация).

Артемий Николаевич Бельтюков, Удмуртский федеральный исследовательский центр УрО Российской академии наук, ул. им. Татьяны Барамзиной, 34, Ижевск 426067, Российская Федерация

к. ф.-м. н., с. н. с., Удмуртский федеральный исследовательский центр УрО РАН (Ижевск, Российская Федерация).

Андрей Михайлович Мизеров, Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж. И. Алфёрова Российской академии наук, ул. Хлопина, 8, корпус 3, литер А, Санкт-Петербург 194021, Российская Федерация

к. ф.-м. н., в. н. с., лаборатория наноэлектроники, Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж. И. Алфёрова РАН (Санкт-Петербург, Российская Федерация).

Игорь Алексеевич Касаткин, Санкт-Петербургский государственный университет, Университетская наб., 7/9, Санкт-Петербург 199034, Российская Федерация

к. г.-м. н., ведущий специалист по рентгеновской дифрактометрии высокого разрешения, Санкт-Петербургский государственный университет, Ресурсный центр «Рентгенодифракционные
методы исследования» (Санкт-Петербург, Российская Федерация).

Радам Али, Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация

аспирант кафедры физики твердого тела и наноструктур, Воронежский государственный университет (Воронеж, Российская Федерация).

Эвелина Павловна Домашевская, Воронежский государственный университет, Университетская пл., 1, Воронеж 394018, Российская Федерация

д. ф.-м. н., профессор кафедры физики твердого тела и наноструктур, Воронежский государственный университет (Воронеж, Российская Федерация).

Литература

Ho V. X., Al Tahtamouni T. M., Jiang H. X., Lin J. Y., Zavada J. M., Vinh N.Q. Room-temperature lasing action in GaN quantum wells in the infrared 1.5 μm region. ACS Photonics. 2018;5: 1303–1309. https://doi.org/10.1021/acsphotonics.7b01253

Lauret T., Manceau J.-M., Monroy E., Lim C. B., Rennesson S., Semond F., Julien F. H., Colombelli R. Short-wave infrared (l = 3 μm) intersubband polaritons in the GaN/AlN system. Applied Physics Letters. 2017;110: 131102. https://doi.org/10.1063/1.4979084

Ajay A., Lim C. B., Browne D. A., Polaczynski J., Bellet-Amalric E., den Hertog M. I., Monroy E. Intersubband absorption in Si- and Ge-doped GaN/AlN heterostructures in self-assembled nanowire and 2D layers. Physica Status Solidi B. 2017;254: 1600734. https://doi.org/10.1002/pssb.201600734

Gkanatsiou A. A., Lioutas Ch. B., Frangis N., Polychroniadis E. K., Prystawko P., Leszczynski M. Electron microscopy characterization of AlGaN/GaN heterostructures grown on Si (111) substrates. Superlattices and Microstructures. 2017;103: 376–385. https://doi.org/10.1016/j.spmi.2016.10.024

Oh J-T., Moon Y-T., Jang J-H., Eum J-H., Sung Y-J., Lee S. Y., Song J-O., Seong T-Y. Highperformance GaN-based light emitting diodes grown on 8-inch Si substrate by using a combined lowtemperature and high-temperature-grown AlN buffer layer. Journal of Alloys and Compounds. 2018;732: 630–636. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2017.10.200

Sugawara Y., Ishikawa Y., Watanabe A., Miyoshi M., Egawa T. Observation of reaction between a-type dislocations in GaN layer grown on 4-in. Si(111) substrate with AlGaN/AlN strained layer superlattice after dislocation propagation. Journal of Crystal Growth. 2017;468: 536–540. https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2016.11.010

Mizerov A. M., Timoshnev S. N., Sobolev M. S., Nikitina E. V., Shubina K. Yu., Berezovskaia T. N., Shtrom I. V., Bouravleuv A. D. Features of the initial stage of GaN growth on Si(111) substrates by nitrogenp lasma-assisted molecular-beamepitaxy. Semiconductors. 2018;52(12), 1529-1533. https://doi.org/10.1134/S1063782618120175

Kukushkin S. A., Mizerov A. M., Osipov A. V., Redkov A. V., Timoshnev S. S. Plasma assisted molecular beam epitaxy of thin GaN films on Si(111) and SiC/Si(111) substrates: Effect of SiC and polarity issues. Thin Solid Films. 2018;646: 158–162. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2017.11.037

Lenshin A. S., Kashkarov V. M., Domashevskaya E. P., Bel’tyukov A. N., Gil’mutdinov F. Z. Investigations of the composition of macro-, microand nanoporous silicon surface by ultrasoft X-ray spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. Applied Surface Science. 2015;359: 550–559. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2015.10.140

NIST X-ray Photoelectron Spectroscopy Database. Available at: https://srdata.nist.gov/xps/11. Seredin P. V., Goloshchapov D. L., Lenshin А. S., Mizerov А. М., Zolotukhin D. S. Influence of por-Si sublayer on the features of heteroepitaxial growth and physical properties of InxGa1-xN/Si(111) heterostructures with nanocolumn morphology of thin film. Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures. 2018;104: 101–110. https://doi.org/10.1016/j.physe.2018.07.024

Seredin P. V., Lenshin A. S., Mizerov A. M., Leiste H., Rinke M. Structural, optical and morphological properties of hybrid heterostructures on the basis of GaN grown on compliant substrate por-Si(111). Applied Surface Science. 2019;476: 1049–1060. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.01.239

Fang Z. L., Li, Q. F. Shen X. Y., Cai J. F., Kang J. Y., Shen W. Z., Modified InGaN/GaN quantum wells with dual-wavelength green-yellow emission. Journal of Applied Physics. 2014;115(4): 043514. https://doi.org/10.1063/1.4863208

Seredin P. V., Lenshin A. S., Zolotukhin D. S., Goloshchapov D. L., Mizerov A. M., Arsentyev I. N., Beltyukov A. N. Investigation into the influence of a buffer layer of nanoporous silicon on the atomic and electronic structure and optical properties of AIIIN/ por-Si heterostructures grown by plasma-activated molecular-beam epitaxy. Semiconductors. 2019;53 (7): 993–999. https://doi.org/10.1134/S1063782619070224

Опубликован
2022-03-15
Как цитировать
Леньшин, А. С., Середин, П. В., Золотухин, Д. С., Бельтюков, А. Н., Мизеров, А. М., Касаткин, И. А., Али, Р., & Домашевская, Э. П. (2022). Особенности роста и состава гетероструктур AlxGa1-xN/AlN/por-Si/Si(111), выращенных c использованием буферного слоя пористого кремния. Конденсированные среды и межфазные границы, 24(1), 51-58. https://doi.org/10.17308/kcmf.2022.24/9055
Раздел
Оригинальные статьи

Наиболее читаемые статьи этого автора (авторов)